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반도체 사업

주요 사업내용을 안내해드립니다.

건식 세정 기술의 필요성

사업영역

CO2 Jet 세정 원리

사업영역

물리적 충격력 (Physical Blasting
CO2 Snow & Pellet은 고속의 압축공기와 분사되어 표면 오염 입자와의 충돌에 의한 오염 제거
열충격 (Thermal shock-승화점: -78.5℃)
저온 기류에 의한 오염 막의 냉각, 수축으로 막의 균열 발
팽창 (Sublimation expansion : X800
CO2가 승화되면서 자기부피의 800배로 부피 팽창하여 표면과 오염 막의 박리
오염원의 용해 (Organic solubility)
유기물 용해(용해도 계수:23)- L-CO2는 아세톤, IPA와 비슷한 용해도를 지님
1.2.3.4 순간적으로 반복되면서 이물 제거

CO2 Cleaning Parameters

사업영역

Test Result: #1 / Micro hard nozzle / P=5Bar

사업영역

Before Cleaning
After Cleaning Polymer 제거 가능

Test Result: #2 / Micro hard nozzle / P=5Bar

사업영역

Before Cleaning
After Cleaning Polymer 제거 가능

SEM Data(250배)

5sec Cleaning(Normal)
30sec Cleaning(Over)
No Cleaning(Polymer)

EDAX Data

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5sec Cleaning(Normal)

Element	Weight%	Atomic%
C K	4.70	10.34
O K	2.39	36.98
F K	Weight%	23.13
Si K	130 w	23.38
Cu K	220 V / 400 W	2.42
Ta K	25.60	3.74
Total	100.00

사업영역

30sec Cleaning(Over)

Element	Weight%	Atomic%
C K	8.55	13.53
O K	48.15	57.18
Si K	43.30	29.29
Total	100.00

사업영역

No Cleaning(Polymer)

Element	Weight%	Atomic%
C K	9.44	14.68
O K	49.96	58.32
Si K	40.60	27.00
Total	100.00

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